近日，IBM發(fā)表2nm芯片制造技術(shù)，稱這是世界首創(chuàng)。IBM表示，技術(shù)可以使芯片速度比現(xiàn)今許多筆記本電腦及手機(jī)所使用的主流7納米芯片提升45%，能源效率提高75%。比起當(dāng)前最尖端的5納米芯片，2納米芯片的體積會(huì)更小、速度也會(huì)更快；目前5納米芯片只用在蘋果 iPhone 12等高端手機(jī)，而5納米之后的下一個(gè)技術(shù)節(jié)點(diǎn)料為3納米。
據(jù)了解，作為率先造出7nm（2015年）和5nm（2017年）芯片的廠商，IBM此次的2nm采用的是GAA（環(huán)繞柵極晶體管）技術(shù)，三層。這是第一次使用底介電隔離通道，它可以實(shí)現(xiàn)12 nm的柵長(zhǎng)，其內(nèi)部間隔是第二代干法設(shè)計(jì)，有助于納米片的開發(fā)。這也是第一次使用EUV曝光FEOL部分過程。關(guān)于GAA晶體管技術(shù)，三星3nm、Intel 5nm以及臺(tái)積電2nm均將首次采用。
